鎳鉻旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝或者熱、冷噴涂工藝制得，尺寸根據(jù)客戶要求定制。
鎳鉻平面靶采用真空熔煉、軋制、機(jī)加工等工藝流程制得，尺寸根據(jù)客戶要求定制。
純度：99.9%；常用比例：80-20Cr wt%、60-40Cr wt%。
應(yīng)用領(lǐng)域：大面積玻璃鍍膜、汽車裝飾鍍膜、電阻鍍膜、磁記錄和集成電路等領(lǐng)域。在鍍膜行業(yè)中，Ni-Cr 系二元合金靶材和薄膜被廣泛應(yīng)用于耐磨、減磨、耐熱和抗蝕等表面強(qiáng)化薄膜，以及低輻射( Low-E) 玻璃、微電子、磁記錄、半導(dǎo)體和薄膜電阻等高端技術(shù)產(chǎn)業(yè)，熱處理工藝顯著影響合金的物相結(jié)構(gòu)和顯微組織。
詳細(xì)資料點(diǎn)擊下載
